it之家2月19日消息  it之家获悉，asml正在研发新一代euv光刻机exe:5000系列，最快会于2021年面世。
据it之家了解，现在asml销售的光刻机主要为nxe:3400b和改进型的nxe:3400c，结构上相似。差别在于nxe:3400c采用模块化设计，将平均维护时间从48小时缩短到8-10小时；nxe:3400c的产量也从125wph提升到了175wph。这两款euv光刻机属于第一代，物镜系统的na（数值孔径）为0.33。
在光刻机的分辨率公式中，na数字越大，代表光刻机精度更高。asml现在在研发新一代euv光刻机exe:5000系列，na为0.55。主要合作伙伴有carl zeiss ag和imec比利时微电子中心。
据悉，exe:5000系列euv光刻机主要面向3nm时代，目前台积电和三星的制程工艺路线图已经到了3nm，要想让技术尽快落地到实际，exe:5000系列euv光刻机的研发极为重要。
据asml的爆料，exe:5000系列euv光刻机样机最快会于2021年面世，最快可能会于2023年或者2024年上市。
光刻机是目前世界上最复杂的精密设备之一，芯片制造的核心设备之一，除了可以用来生产芯片，还有用于封装的光刻机、led制造领域的投影光刻机。作为全球唯一能生产euv光刻机的公司——荷兰asml公司。去年共销售26台euv光刻机，用于台积电、三星的7nm和5nm工艺制造。
《兵进光刻机，中国芯片血勇突围战》
来源：it之家
作者：远洋

---